서론: 위기에서 피어난 K-반도체의 반전 드라마
2019년 일본의 반도체 핵심 소재 수출 규제는 한국 반도체 산업에 엄청난 위기를 안겼습니다. EUV 공정 핵심인 포토레지스트 시장을 일본이 독점하고 있어 당장 생산 라인이 멈출 수도 있는 절체절명의 순간이었죠. 하지만 모두가 불가능하다 여겼던 국산화의 꿈은 현실이 되었습니다. 오늘은 이 위기를 발판 삼아 세계 누구도 넘볼 수 없는 반도체 생태계를 구축한 삼성전자와 국내 소부장 기업들의 놀라운 이야기를 들려드리려 합니다. 한국이 어떻게 일본 독점을 깨고 미래 주도권을 잡게 되었는지, 그 성공 비결을 함께 살펴보겠습니다.
불가능을 가능케 한 국산화의 기적
포토레지스트는 반도체 초미세 회로를 그리는 핵심 감광액으로, EUV 공정의 초고난도 기술입니다. 수천억 원 EUV 장비 부재로 국내 기업 개발은 난항을 겪었죠. 2019년 위기 속, 삼성전자는 화성 EUV 양산 라인을 동진쎄미켐에 전격 개방하는 파격 결단을 내렸습니다. 최첨단 라인을 중소기업에 공유한 이 협력은 기적을 낳았습니다. 동진쎄미켐은 실제 양산 환경에서 즉각 피드백을 받으며 개발 속도를 높여, EUV 포토레지스트 감도를 절반 가까이 개선했습니다. 마침내 2023년 D램 공정, 2025년 3나노 파운드리 라인에 공급되며 일본 독점 체제를 성공적으로 깨뜨렸습니다.
역설적 전환점: 국내외 협력과 차세대 소재 주도권
일본의 규제는 역설적으로 해외 기업들을 한국으로 이끌었습니다. 차세대 금속산화물 레지스트(MOR) 공장이 2026년 국내 완공을 목표로 건설 중입니다. MOR은 3나노 이하 공정 필수 차세대 소재로, 현재 세계적으로 단 한 곳만 상업 양산하는 초고난도 기술입니다. 하지만 한국도 삼성SDI가 2023년부터 MOR 개발에 뛰어들어 삼성전자에 샘플을 공급 중입니다. 삼성전자는 기존 유기물 포토레지스트는 동진쎄미켐과, 차세대 무기물은 삼성SDI와 협력하는 ‘투 트랙 전략’을 구사합니다. 2025년 말 도입될 ASML의 최신 하이 NA(High-NA) EUV 장비는 무기물 포토레지스트 중요성을 더욱 키우며, 2나노 시대를 위한 한국 반도체 퍼즐이 완성되고 있습니다.
초격차를 향한 여정, 그리고 기술 보안의 중요성
결론적으로, 2019년 일본 규제는 한국 반도체 위기였으나 ‘무적의 소부장 생태계’ 구축의 결정적 계기가 되었습니다. 대기업-중소기업 협력으로 기술 장벽을 넘고, 해외 기업 국내 투자 유치, 차세대 MOR 소재 독자 개발까지 이루었죠. 한국은 이제 2나노, 1.4나노를 넘어 ‘초격차’를 향해 나아갑니다. 하지만 피땀 어린 이 기술을 지키는 것은 국산화만큼 중요합니다. 국가 핵심 기술 유출은 수조 원 가치 침해 및 국가 안보 위협으로 이어집니다. 이 소중한 기술 자산을 철저히 보호하는 것이야말로 대한민국의 지속적 번영과 진정한 초격차를 완성하는 길입니다.
